| 參考文獻 | 1. (a) Pope, M.; Kallmann, H. P.; Magnante, P. J. Chem. Phys. 1963, 38,
2042. (b) Helfrich, W.; Schneider, W. G. Phys. Rev. Lett. 1965, 14,
229. (c) Williams, D. F.; Schadt, M. Proc. IEEE. 1970, 58, 476.
2. Tang, C. W.; VanSlyke, S. A. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913.
3. Tang, C. W.; VanSlyke, S. A.; Chen, C. H. J. Appl. Phys. 1989, 65,
3610.
4. Burroughes, J. H.; Bradley, D. C.; Brown, A. R.; Marks, R. N.;
Mackay, K. D.; Friend, R.H.; Burn, P. L.; Holmes, A. B. Nature 1990,
347, 539.
5. 審譯：林敬二；林宗義, 儀器分析第四板, 1994, 上冊, 174.
6. Baldo, M. A.; O’Brien, D. F.; You, Y.; Shoustikov, A.; Sibley, S.;
Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Nature, 1998, 395, 151.
7. Thompson, M. E.; Shoustikov, A.; You, Y.; Sibley, S.; Baldo, M.;
Koslov, V.; Burrows, E. P.; Forrest, S. R. MRS Abstract, G2.4, Spring
Meeting, 1998
8. O’Brien, D. F.; Baldo, M. A.; Thompson, M. E.; Forrest, S. R. Appl.
Phys. Lett., 1999, 74, 442.
9. Shirota, Y.; Kuwabara, Y.; Inaba, H.; Wakimoto, T.; Nakada, H.;
Yonemoto, Y.; Kawami, S.; Imai, K.; Appl. Phys. Lett., 1994, 65, 807.
10. Matsumura, M.; Akal, T. Jpn. J. Appl. Phys. 1996, 35, 5357.
11. Burrows, P. E.; Shen. Z.; Bulovic, V.; McCarty, D. M.; Forrest, S.
R.; Cronin, J. A.; Thompson, M. E. J. Appl. Phys. 1996, 79(10), 7991.
12. Hamada, Y.; Sano, M.; Fujita, T.; Nishio, Y.; Shibata, K. Jpn. J.
Appl. Phys. 1993, 32(4A), L514.
13. Kido, J.; Iizumi, Y. Chem. Lett. 1997. 963.
14. Y. Hamada, IEEE Transactions on electron device, 1997, 44, 1208.
15. Liang, C. J.; wong, T. C.; Hung, L. S.; Lee, S. T.; Hong, Z. R.; Li, W.L. J. Phys. D: Appl. Phys. 2001, 34, L61-L64.
16. Kido, J.; Nagai, K.; Okamoto, Y.; Skotheim, T.; Chem. Lett. 1991.
1267
17. Alpha, B.; Lehn, J. M.; Mathis, G.; Angew. Chem. Int. Ed. Engl.
1987, 26, 266.
18. Sabbatini, N.; Guardigli, M.; Corrd. Chem. Rev., 1993, 123, 201.
19. Liang, C. J.; Zhao, D.; Hong, Z. R.; Zhao, D. X.; Liu, X.Y.; Li, W.
L.; Peng, J. B.; Yu, J. Q.; Lee, C. S.; Lee, S. T.; Appl Phys. Lett.
2000, 76, 67.
20. B.Schulz, B. Stiller, T. Zetzsche, G. Knochenhauer, R. Dietel, L. Brehmer, Chem. Mater., 7, 1041(1995)
21. H. Kanai, S. Ichinosawa, Y. Sato, Synth. Met., 91, 195 (1997).
22. D. M. Pai, J. F. Yanus, and M. Stolka*
Xerox Webster Research Center, Webster, New York I4580 (Received: January 19, 1984)
23. K. M. Vaeth and C. W. Tang: J. Appl. Phys. 92 (2002) 3447.
24. X. Gong, J. C. Ostrowski, G. C. Bazan, D. Moses and A. J. Heeger:
Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 3711.
25. F.-C. Chen, Y. Yang, M. E. Thompson and J. Kido: Appl. Phys. Lett.
80 (2002) 2308.
26. S.-C. Chang, G. He, F.-C. Chen, T.-F. Guo and Y. Yang: Appl. Phys.
Lett. 79 (2001) 2088.
27. Y. Kawamura, S. Yanagida and S. R. Forrest: J. Appl. Phys. 92 (2002)
87.
28. M.-J. Yang and T. Tsutsui: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) L828.
|
|---|
